CVD氣相沉積爐為立式真空感應(yīng)加熱爐，它由爐體、爐蓋、真空系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、加氣系統(tǒng)、和水冷系統(tǒng)等部分組成。爐身采用水冷夾層結(jié)構(gòu)。爐內(nèi)裝有感應(yīng)線圈，發(fā)熱體也是石墨材料制成石墨坩堝。發(fā)熱體外圍是由碳?xì)纸M成的保溫裝置和由剛玉組成的隔熱絕緣裝置。測溫元件采用熱電偶，半自動/手動控制爐溫，采用智能型溫度表控溫。

CVD氣相沉積爐技術(shù)特征：

CVD氣相沉積爐工作區(qū)尺寸可達(dá)2.5m×2m×4.5m，能滿足大型工件化學(xué)氣相沉積處理需求；

CVD氣相沉積爐采用多溫區(qū)獨(dú)立控溫，溫度均勻性好；

CVD氣相沉積爐采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)；

CVD氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；

CVD氣相沉積爐能有效處理生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的各種規(guī)格雜質(zhì)。